基于PEM的反应磁控溅射镀膜机参数监控系统

摘要：

实时在线监测磁控溅射反应气体的参数可有效保证镀膜质量;针对反应磁控溅射离子镀膜机反应气体的功能需求,分析了反应气体的控制原理,基于PEM方法提出了控制器方案和反应气体的参数监控方案,分析了监控系统的功能需求,自定义了串口通信协议,基于LabVIEW和串口设计了反应气体的参数监控系统系统,并与设计的控制器用于镀膜工艺试验;试验结果表明,基于PEM方法设计的反应气体参数监控系统功能正确,可为控制器和镀膜机提供参数调控依据,为提高硬质镀膜质量提供了一套有效的监控方法.

关键词：磁控溅射、真空镀膜、串口通信、LabVIEW

所属期刊栏目：22

分类号：TN305.8(半导体技术)

资助基金：长安大学中央高校基本科研业务费2014G1251024,2013G1251032

在线出版日期：2015-01-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：3223-3226