煮糖结晶过程的动态矩阵控制研究

摘要：

由于煮糖结晶过程本身受干扰的因素比较多,如糖浆的锤度、糖浆杂质、真空度以及温度的变化都会影响蔗糖结晶过程,非线性比较强.因此一般的控制策略(比如常规PID)难以凑效,根据煮糖结晶过程的物料平衡、能量平衡和生产过程的各种物性参数的机理解析关系(如晶体生长分散)建立描述被控对象的模型,并以该模型作为预测模型对煮糖结晶过程实施动态矩阵控制(DMC),仿真结果表明该控制算法对煮糖过程的控制是有效的.

关键词：预测模型、动态矩阵控制、过饱和度、生长分散

所属期刊栏目：14

分类号：TP273;S566(自动化技术及设备)

在线出版日期：2006-03-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：72-74