氧化铟半导体薄膜厚度控制的支持向量回归模型

摘要：

将支持向量回归(SVR)方法用于氧化铟薄膜的厚度控制.取已有的实验数据作为模式识别训练样本,以样品中氧化铟的重量百分含量、原料的粘度、添加剂的重量百分含量以及两个处理工艺条件提拉速度和提拉次数作为特征变量,得到了用于计算薄膜厚度的回归方程式.用"留一法"检验所得数学模型的预报能力,并将结果与传统的模式识别方法(Fisher法和KNN)进行了比较,结果表明:SVR的预报准确率比Fisher和KNN方法高.因此,SVR方法有望成为一种新的实验设计的手段.

关键词：数据信息采掘、支持向量机、支持向量回归、氧化铟薄膜、膜厚的控制

所属期刊栏目：19

分类号：O06-04

资助基金：国家自然科学基金委员会和美国福特公司联合资助项目9716214

在线出版日期：2004-04-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：733-736