低压力铜化学机械抛光集散控制系统

摘要：

针对化学机械抛光设备提出了PC+NC+实时网络分布式可编程自动控制器的控制方案,并介绍了该系统的总体结构和主控制系统、网络化协调控制子系统、分布式执行控制子系统等核心环节的软硬件实现技术.单区域抛光头气压控制结果表明,该系统具有较高的稳定性和可靠性,能很好地满足化学机械抛光项目的总体要求.

关键词：化学机械抛光、运动控制、网络化递阶系统、分布式执行、可编程自动控制器

所属期刊栏目：16

分类号：TP14(自动化基础理论)

资助基金：国家科技重大专项资助项目2008ZX02104;摩擦学国家重点实验室基金资助项目SKLT08B08

在线出版日期：2011-04-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共8页

页码：2653-2660