局部特征描述改进的LK跟踪注册方法

摘要：

针对KLT跟踪方法抗光照变化和抗遮挡较差的问题,提出一种使用局部特征描述改进的LK跟踪注册方法(DF-LK).使用ORB特征点求解初始位姿,通过自适应非极大值抑制重新划分特征点,选择均匀分布的特征点作为LK方法跟踪的控制点集.相邻帧图像之间的单应性矩阵通过在DF描述后的图像上使用LK方法进行求解,跟踪的结果由向前向后错误检测进行评估,由单应性矩阵和初始位姿求解出当前帧的摄像机位姿,并叠加虚拟信息.实验结果表明,该方法在光照变化、部分遮挡和透视变化时均有较好的稳定性和鲁棒性.

关键词：增强现实、跟踪注册、局部描述子、自适应非极大值抑制、向前向后错误

所属期刊栏目：41

分类号：TP391.9(计算技术、计算机技术)

资助基金：广东省科技计划基金项目 2017B010110008、2016A040403108

在线出版日期：2020-04-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：458-464