对象模型在集成电路掩膜光学临近矫正中的应用

摘要：

随着超大规模集成电路的发展,其特征尺寸已经接近或小于掩膜光刻工艺中所使用的光波长.由于光的衍射和干涉现象,实际得到的光刻图形与掩膜图形之间存在一定的误差.为尽量消除这种误差,常用的两种方法是OPC和PSM. 提出一种基于对象模型的OPC方法以及由此而开发的可实际应用的工具软件OPCM.该方法也为基于规则的OPC提供了产生基本规则的引擎,并由此而提高了软件的实用性.

关键词：掩膜光学临近矫正、对象模型

所属期刊栏目：15

分类号：TP47

资助基金：清华大学校科研和教改项目200111002

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：255-258