300 mm半导体厂含Cu废水处理工程应用

摘要：

300 mm半导体厂含Cu废水的浓度和水量较200 mm半导体厂有明显的增加,而且越先进的制程工艺,其产生的含Cu废水处理的难度也越高.采用酵素-破络沉淀工艺处理含Cu废水,工程应用表明:在含Cu废水H2O2质量浓度为112~485 mg/L,总Cu质量浓度6~80 mg/L的条件下,经处理后出水H2O2质量浓度低于5 mg/L,总Cu质量浓度低于1 mg/L,去除率达到97%以上,总排口的总Cu质量浓度控制在0.5 mg/L以下,完全达到DB 31/374—2006《上海市半导体行业污染物排放标准》.

关键词：半导体、含Cu废水、破络、工程应用

所属期刊栏目：30

分类号：X7(废物处理与综合利用)

在线出版日期：2017-09-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：39-41