10.3969/j.issn.1674-4829.2010.02.018
低温等离子体技术处理全氟化合物研究进展
对低温等离子体技术降解全氟化合物的研究现状、新型技术、成果、存在的问题以及发展方向做了全面综述.着重总结了微波等离子体技术、水等离子体技术、填充床等离子体技术等.简要阐明了低温等离子体技术对全氟化合物的去除机理,以及微波等离手体技术和水等离子体技术对CF4的降解机理.最后总结低温等离子体技术对全氟化合物降解的发展前景.
全氟化合物、低温等离子体、机理
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X2(社会与环境)
水处理与水环境修复教育部工程研究中心开放基金资助项目WTWER0709
2010-06-29(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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