低温等离子体技术处理全氟化合物研究进展
万方数据知识服务平台
应用市场
我的应用
会员HOT
万方期刊
×

点击收藏,不怕下次找不到~

@万方数据
会员HOT

期刊专题

10.3969/j.issn.1674-4829.2010.02.018

低温等离子体技术处理全氟化合物研究进展

引用
对低温等离子体技术降解全氟化合物的研究现状、新型技术、成果、存在的问题以及发展方向做了全面综述.着重总结了微波等离子体技术、水等离子体技术、填充床等离子体技术等.简要阐明了低温等离子体技术对全氟化合物的去除机理,以及微波等离手体技术和水等离子体技术对CF4的降解机理.最后总结低温等离子体技术对全氟化合物降解的发展前景.

全氟化合物、低温等离子体、机理

23

X2(社会与环境)

水处理与水环境修复教育部工程研究中心开放基金资助项目WTWER0709

2010-06-29(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共5页

59-63

相关文献
评论
暂无封面信息
查看本期封面目录

环境科技

1004-8642

32-1786/X

23

2010,23(2)

相关作者
相关机构

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn