CVD钨铼合金的制备及其相关应用

摘要：

微电子技术的发展促使钨铼合金向高纯、高致密、高均匀化方向发展,化学气相沉积(CVD)W-Re合金在纯度、致密度方面有着绝对优势,探索CVDW-Re合金的制备工艺对制备均匀的高纯高致密W-Re合金有重要意义.从CVD钨铼合金共沉积系统出发,介绍了CVD钨铼共沉积体系中存在的物质及可能发生的基元反应;阐述了不同限速步骤下钨铼合金的组织和性能演变,并强调了铼的气相传质控制下,钨铼合金成分对气相组成和沉积温度的敏感性;解释了高铼含量和低铼含量的钨铼合金的晶体生长形貌和生长机制;结合W-Re二元平衡相图总结了CVD W-Re合金的组成、性能和应用.通过以上对CVDW-Re合金系统的介绍,为高纯、高致密且性能均匀的钨铼合金的制备和应用市场的开发提供了借鉴.

关键词：化学气相沉积、钨铼合金、性能及应用

所属期刊栏目：27

分类号：TQ164;TG146.41;TB383

资助基金：国家自然科学基金51671031

在线出版日期：2021-02-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共9页

页码：15-23