中国光刻分辨力达22纳米
国家重大科研装备研制项目”超分辨光刻装备研制”11月29日通过验收.该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制.中科院理化技术研究所许祖彦院士等验收组专家一致表示,该光刻机在365纳米光源波长下,单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米.项目在原理上突破分辨力衍射极限,建立了一条高分辨、大面积的纳米光刻装备研发新路线,绕过国外相关知识产权壁垒.
2019-05-20(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共1页
2
点击收藏,不怕下次找不到~
2019-05-20(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共1页
2
国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1
违法和不良信息举报电话:4000115888 举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn