10.3969/j.issn.1674-6457.2022.11.007
TiAl合金片层形成及其稳定性研究现状
TiAl合金具有低密度和优异的高温性能,是650~850℃温度区间内替代镍基高温合金的重要候选材料.具有片层组织的TiAl合金高温综合性能优异,但片层组织形成机理、高温服役条件下片层稳定性仍是关注的重点.综述了近年来片层形成和组织稳定性的研究成果,主要分析片层形成机制和γ变体选择机制,以及片层特征对组织稳定性的影响,并对未来的研究方向进行了展望.
TiAl合金、片层形成、变体选择、稳定性、片层特征
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TG146(金属学与热处理)
2022-11-29(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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