高品质因子氟化镁晶体微腔制备与测试

摘要：

研制了基于直线电机、高精度光栅尺、力学反馈单元的精密自动磨抛系统.在制备晶体微腔时,该系统可准确控制晶体微腔的尺寸、厚度及外形.采用预成型、粗磨、粗抛以及精抛等步骤制备了具有高品质因子的氟化镁晶体梯形微盘腔.利用白光干涉仪表征精抛后的氟化镁晶体表面粗糙度为2.84 nm.通过搭建锥形光纤与晶体微腔耦合测试系统,采用光腔衰荡方法测得所制备的晶体微腔在1 550 nm处的本征品质因子为4.55×108.

关键词：计量学、光学微腔、氟化镁晶体、高品质因子、精密磨抛

所属期刊栏目：44

分类号：TB96(计量学)

资助基金：国家重点研发计划;国家重点研发计划;国家自然科学基金;国家自然科学基金;国家自然科学基金

在线出版日期：2023-09-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：1169-1175