用KI/KIO3化学曝光剂测量UV-LED紫外线输出量过程中反射量的确定

摘要：

用KI/KIO3测量紫外线输出量时,由于液体表面反射,会有部分入射光的光子未进入液体,导致测量误差.根据菲涅耳方程,反射量与入射角密切相关,紫外线发光二极管发出的每束光的辐射角和进入溶液的入射角都是不同的.为了定量多种辐射角、入射角引起的复杂反射的总体反射量,拍摄了各种情况下的化学曝光剂漩涡表面的轮廓,进行了数学分析,建立了准确计算反射损失的数学方法.通过计算得到的反射系数可以补偿反射损失以得到准确的测量结果,也可根据计算数据,控制操作条件以减小反射量.根据拍摄到的液体旋转形成的旋涡,反射系数可被稳定地控制在约0.025.反射系数的稳定意味着消除了反射可能引起的测量误差.

关键词：计量学、反射损耗、化学曝光剂、紫外线发光二极管、菲涅耳方程、旋涡

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分类号：TB96(计量学)

资助基金：深圳市科技计划项目;深圳市科技计划项目;无锡华兆泓光电科技有限公司研发基金;深圳市晶宏照明有限公司研发基金

在线出版日期：2023-08-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：1040-1045