光致抗蚀剂的应用及其相关研究

摘要：

光致抗蚀剂是制作超大规模集成电路的关键性材料之一,随着集成电路产业对集成度要求的不断提高,对于光致抗蚀剂的研究也不断深入.本文综述了光致抗蚀剂类型及应用,对于几种常用紫外光致抗蚀剂进行了阐述,并对其特性和适用范围做了简单介绍.

关键词：光致抗蚀剂、紫外光、电子束、X射线、离子束、纳米压印

所属期刊栏目：31

分类号：TN304(半导体技术)

在线出版日期：2014-10-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：75-78