分子玻璃光致抗蚀剂研究进展

摘要：

随着半导体芯片集成度的快速提高，光刻技术的分辨率正由90、65和45nm迈向更先进的32nm或以下．而分子玻璃体抗蚀剂可能是下一代光刻技术的最好选择．本文阐述了分子玻璃光致抗蚀剂的设计思想，并介绍了几种性能良好的分子玻璃光致抗蚀剂．

关键词：光致抗蚀剂、分子玻璃体、结构

所属期刊栏目：29

分类号：TN304(半导体技术)

在线出版日期：2012-12-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：12-16