磁控溅射ZnO薄膜的三阶非线性光学特性

摘要：

采用磁控溅射技术在SiO 2衬底上制备ZnO薄膜,并通过X射线衍射仪、原子力显微镜、紫外-可见分光光度计和荧光光谱仪对薄膜的晶体结构、表面形貌、带隙宽度和光致发光性质进行测试表征,结合飞秒激光(波长为800 nm,脉宽50 fs)和Z扫描方法测量该薄膜的三阶非线性光学特性.结果表明,其三阶非线性折射率和非线性吸收系数均为正值,分别为3.50×10-18 m2/W和2.88×10-11 m/W.

关键词：磁控溅射、氧化锌薄膜、三阶非线性光学、Z扫描

所属期刊栏目：55

分类号：O437(光学)

资助基金：国家自然科学基金20873052;吉林省教育厅"十二五"科学技术研究项目2013499

在线出版日期：2017-04-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：145-149