10.13413/j.cnki.jdxblxb.2014.05.34
铜纳米线拉伸断裂过程的原子尺度分子动力学模拟
基于经典力学势函数的分子动力学模拟方法研究铜纳米线的拉伸断裂过程,并分析断裂前应力、应变和位错行为的关系及断裂后的形貌演化。结果表明:纳米线两端的锥形结构可阻塞位错运动,从而提高其断裂强度;断裂后断口处尖锐的尖端结构形貌会发生自发的回缩和钝化,该过程是尖端上储存的弹性能和的高能结构(如孤立原子、孪晶界和表面弯折等)的自我修复,最终在表面上形成许多能量较低的(111)小平面所致;其物理机理是在温度激活下的能量最小化过程。
铜纳米线、材料断裂、位错运动、微观形貌
TN304(半导体技术)
国家自然科学基金11104109
2014-10-24(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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1039-1043