阳光反射对空地成像设备干扰影响分析
万方数据知识服务平台
应用市场
我的应用
会员HOT
万方期刊
×

点击收藏,不怕下次找不到~

@万方数据
会员HOT

期刊专题

10.3969/j.issn.1001-5078.2023.07.015

阳光反射对空地成像设备干扰影响分析

引用
分析了强反射源阳光反射干扰效应,并利用精密转台、镜面反射装置和空地成像设备实测了干扰效应.实测显示:阳光反射干扰效应像素数可达镜面理想成像像素数 20 倍;较强的干扰效应及闪烁,对空地成像设备稳定跟踪造成较大影响.全流程的外场阳光反射干扰实验实现难度较大;本文提出和实现了基于实测阳光干扰效应,仿真包含背景、目标和干扰的场景图像注入空地成像设备获取跟踪制导数据,将数据代入弹道计算模型的实验方法.最后分析了阳光反射对空地成像设备最终干扰效果.当 10 km干扰有效,落点误差大于450 m;5 km干扰有效,落点误差大于25 m,被保护目标需采取一定的措施;若干扰距离不小于 10 km,即使人在回路重新锁定目标,落点误差大于 110 m.本文对空地成像设备抗阳光干扰算法改进和抗干扰能力评估具有一定的借鉴意义.

空地成像设备、阳光反射、干扰效应、落点误差

53

TN97

2023-08-16(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共6页

1081-1086

相关文献
评论
暂无封面信息
查看本期封面目录

激光与红外

1001-5078

11-2436/TN

53

2023,53(7)

相关作者
相关机构

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn