线性阵列逆向调制器反射光强测试实验研究

摘要：

为了分析逆向调制器的反射光场和反射光强的变化规律,利用532 nm激光照射逆向调制器阵列,测试得到了离焦量、入射角变化时的逆向调制器的反射光场和反射光强,得到了阵列调制器反射光强与单个逆向调制器反射光强关系.测试结果表明,一定范围的正离焦使反射光束发散角变小,反射光能量聚焦度好,负离焦相反.入射角使反射光场发生畸变,反射光强与入射角成反比.离焦量为0或负离焦时,阵列调制器的反射光强是单个调制器反射光强的线性叠加.

关键词：逆向调制、线性阵列、光场分布、光强分布、离焦量、入射角

所属期刊栏目：51

分类号：TN249(光电子技术、激光技术)

在线出版日期：2021-07-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：747-751