紫外激光改性氧化钒薄膜

摘要：

氧化钒薄膜制备后需要进行退火处理以降低非晶态氧化钒薄膜的方阻大小并改善薄膜结晶特性.传统退火方式时间较长且退火过程会导致器件性能降低.本文主要利用激光精确控制的特点处理氧化钒薄膜,通过平顶光路系统改变激光功率、高斯光斑形貌以及光斑的重叠率对氧化钒薄膜进行退火处理,主要研究了激光能量密度以及光斑重叠率对氧化钒薄膜的方阻,表面粗糙度以及结晶度的影响.实验结果表明激光功率为0.7 W,光斑重叠率为93.33%,光斑能量密度为62.2 mJ/cm2时,退火氧化钒薄膜的方阻值明显降低,薄膜表面光滑且氧化钒结晶度较好.

关键词：激光功率、激光重叠率、氧化钒薄膜、激光退火、光束整形

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分类号：TN304.2(半导体技术)

资助基金：国家自然科学基金项目61474031;广西自然科学基金项目2016GXNSFDA380021;桂林市科技开发项目20160216-1;桂林电子科技大学研究生教育创新计划项目2016YJCX15;电子薄膜与集成器件国家重点实验室开放课题KFJJ201604;国家自然科学基金项目51505456;吉林省省级经济结构战略调整引导资金专项基金项目2015Y028;国家自然科学基金项目61376083

在线出版日期：2018-01-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：1473-1478