980 nm大功率半导体激光器增透膜的优化设计与制备

摘要：

对于大功率半导体激光器，根据其最佳工作点随着和端面反射率相关的阈值电流等参数的变化规律，选择适合的腔面膜反射率系数进行设计。设计并制备三种腔面膜膜系，它们的增透膜在980 nm处反射率系数分别为8％、5％与2％，高反膜反射率系数均为90％。器件封装后分别测试其发光性能，数据显示与未镀膜的激光器相比，镀膜后的激光器在输入15 A电流时，它们的输出功率提高了35．18％～37．35％；它们在其最佳工作点处转换效率提高了25．33％～27．44％；此外高反膜反射率一定时，它们达到最佳工作点所需的电流值随其增透膜反射率系数减小而增大，结果表明优化选取合适的半导体激光器腔面膜膜系进行镀制，可以使半导体激光器在最佳工作点具有更大的输入电流，从而更适合在大功率工作。

关键词：腔面膜、增透膜、电子束蒸发、最佳工作点、反射率

分类号：TN248.4(光电子技术、激光技术)

资助基金：国家自然科学基金No.61106028资助。

在线出版日期：2014-09-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：879-883