适用于厚膜剥离的图形反转双层胶光刻技术

摘要：

介绍了一种适用于厚膜剥离的图形反转双层胶光刻技术,采用图形反转胶和正型光刻胶,选择合适的光刻工艺形成了光刻胶"倒梯形"的剖面结构,可以成功剥离与胶层厚度相同的膜层,厚度可达13 μm.同时对一些技术机理和关键工艺条件进行了讨论.

关键词：图形反转、双层光刻胶、厚膜剥离、倒梯形

所属期刊栏目：40

分类号：TN205(光电子技术、激光技术)

在线出版日期：2010-05-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：257-259