氧分压对HfOxNy薄膜结构和光学性能的影响

摘要：

用磁控反应溅射法在不同氧分压下制备了氮氧化铪薄膜.沉积过程在氧气、氮气和氩气的气氛中进行,衬底为多光谱ZnS,沉积温度为室温.用X射线衍射、扫描电镜、原子力显微镜、傅里叶变换红外光谱仪、紫外-可见分光光度计等分别研究了不同氧分压下HfOxNy薄膜的晶体结构、显微结构、光学性能等.XRD分析表明随着氧分压的降低,薄膜的晶体结构由氧化铪转变为氮氧化铪相;SEM和AFM分析表明不同氧分压下沉积的薄膜都为柱状结构,氧分压较低时薄膜表面粗糙度较大;镀膜之后,在0.35～2μm范围内,薄膜的透过率变化有显著差异,在2～12μm波段,薄膜透过率和未镀膜衬底透过率相当,变化不明显.

关键词：氮氧化铪薄膜、磁控反应溅射、晶体结构、显微结构、光学性能

所属期刊栏目：37

分类号：TN213;TB43(光电子技术、激光技术)

在线出版日期：2008-04-03（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：1307-1310