10.3969/j.issn.1001-5078.2006.11.014
Si基复合衬底碲镉汞液相外延技术的研究
文章报道了采用Si基复合衬底,利用液相外延方法成功进行中波碲镉汞薄膜生长的情况,并且采用X光双晶衍射、X光形貌、红外付立叶光谱仪等手段对碲镉汞薄膜进行了表征.Si基复合衬底碲镉汞外延膜晶体结构为单晶,并且它的双晶衍射半峰值接近国外同类产品的先进水平.
碲镉汞、液相外延、Si基复合衬底
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TN215;TN304.054(光电子技术、激光技术)
2006-12-18(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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