SIMS在碲镉汞红外焦平面探测器工艺中的应用
万方数据知识服务平台
应用市场
我的应用
会员HOT
万方期刊
×

点击收藏,不怕下次找不到~

@万方数据
会员HOT

期刊专题

10.3969/j.issn.1001-5078.2006.11.002

SIMS在碲镉汞红外焦平面探测器工艺中的应用

引用
文章介绍了二次离子质谱仪的结构及其基本工作原理,并通过对典型应用的分析,介绍了二次离子质谱分析技术在高灵敏度碲镉汞红外焦平面探测器材料和器件制备工艺中的作用,特别是在结探监测和微量杂质监控方面所发挥的重要作用.

二次离子质谱、碲镉汞、红外焦平面阵列、结深、杂质

36

TN215;TN305(光电子技术、激光技术)

2006-12-18(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共3页

1013-1015

相关文献
评论
暂无封面信息
查看本期封面目录

激光与红外

1001-5078

11-2436/TN

36

2006,36(11)

相关作者
相关机构

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn