10.3969/j.issn.1001-5078.2006.06.002
原子光刻及关键技术分析
文章对原子光刻进行了深入的分析,介绍了其基本概念、工作机理、相关实验方案,针对原子光刻的原子捕获、激光稳频、原子束聚焦和沉积等关键技术,进行了分析和探讨.
原子光刻、纳米结构、原子捕获、激光稳频、原子束沉积
36
TN305.7(半导体技术)
上海市科委资助项目0259nm-034
2006-07-07(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
427-430
点击收藏,不怕下次找不到~
10.3969/j.issn.1001-5078.2006.06.002
原子光刻、纳米结构、原子捕获、激光稳频、原子束沉积
36
TN305.7(半导体技术)
上海市科委资助项目0259nm-034
2006-07-07(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
427-430
国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1
违法和不良信息举报电话:4000115888 举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn