ZnTe薄膜性能研究
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10.3969/j.issn.1001-5078.2006.02.017

ZnTe薄膜性能研究

引用
用真空共蒸发法在室温下制备了ZnTe: Cu多晶薄膜.用XRD表征薄膜结构,刚沉积未掺Cu和适度掺Cu的薄膜为立方结构,高度(111)择优,重掺Cu的为立方和六方混合相.室温时薄膜的形貌和光能隙取决于掺Cu浓度和退火温度,并通过透射光谱的测量计算出光能隙.

ZnTe:Cu薄膜、共蒸发法、退火

36

TB303;O484.4(工程材料学)

中国科学院资助项目50076030;河北省教育厅自然科学基金2004402

2006-04-06(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共3页

135-137

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1001-5078

11-2436/TN

36

2006,36(2)

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