10.3969/j.issn.1001-5078.2005.11.015
碲锌镉表面腐蚀坑所对应缺陷的特性研究
文中通过使用Nakagawa、Everson、EAg1和EAg2四种常用腐蚀剂对碲锌镉材料的腐蚀坑空间分布特性进行研究,结果显示,20μm厚的(111)晶片A、B面上的腐蚀坑在空间位置上不存在对应关系,这表明腐蚀坑所对应的缺陷不是具有穿越特性的位错.腐蚀坑的空间局限性特征和热处理后腐蚀坑密度(EPD)减少等实验结果表明,腐蚀坑更有可能对应某种微沉淀物缺陷,将目前常用腐蚀剂的EPD作为碲锌镉材料的位错密度是缺乏实验依据的.
碲锌镉、腐蚀坑密度、位错、微沉淀缺陷、热处理
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TN304.2+5;O472+.1(半导体技术)
中国科学院资助项目60221502
2005-12-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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849-852