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10.3969/j.issn.1001-5078.2005.03.012

(Al)GaInP材料的MOCVD生长研究

引用
对可见光半导体光电子材料Ga0.5In0.5P、(AlxGa1-x)0.5In0.5P的MOCVD生长进行了研究.使用X射线双晶衍射和PL谱测量结合的手段,研究了生长速度和生长温度对材料质量的影响.根据测试结果优化了(Al)GaInP材料的生长速度和生长温度.为研制出高性能的650nm半导体激光器打下良好的材料基础.

金属有机化合物汽相淀积、AlGaInP、GaInP

35

TN244(光电子技术、激光技术)

国家重点基础研究发展计划973计划G20000683-02

2005-04-28(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共3页

181-183

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激光与红外

1001-5078

11-2436/TN

35

2005,35(3)

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