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10.3788/LOP220705

随机粗糙面穆勒矩阵的数值分析

引用
穆勒矩阵反映了物体对光波偏振特性的影响,包含大量的物体表面信息.采用基尔霍夫近似法分析了二维随机粗糙面的散射场和散射穆勒矩阵,数值模拟了入射角和相对粗糙度变化时铜、铁、镍、玻璃、铌酸锂的散射穆勒矩阵.仿真结果表明,金属和电介质的穆勒矩阵存在明显差异:随着入射角的增大,金属和电介质的m01、m10、m22、m33参数变化幅度分别小于30%和大于80%;随着相对粗糙度的增大,金属和电介质的m00、m11、m22、m33参数变化幅度分别超过60%和小于20%;金属的m23、m32参数随入射角的增大而增大,随着相对粗糙度的增大而减小,而电介质的m23、m32参数始终为0.这些差异可用于识别金属和电介质,也为物体表面粗糙度的测量提供了一定参考.

散射、物理光学、穆勒矩阵、粗糙度、入射角

60

O436.2(光学)

2023-05-09(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共9页

354-362

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