光刻技术六十年

摘要：

当今世界离不开信息产业,信息产业离不开半导体集成电路芯片制造技术,即微电子技术.集成电路芯片制造工艺中最关键的就是光刻技术.光刻技术开始于1958年美国德克萨斯公司试制的世界上第一块平面集成电路,在短短的60年中,光刻分辨率极限一次又一次被突破,创造了人间奇迹.作为微电子技术工艺基础的光刻技术与微/纳米加工技术是人类迄今为止所能达到的精度最高的加工技术.光刻加工尺寸从百微米到10 nm,加工手段从钢板尺手术刀照相机到电子束光刻,光源波长从光学曝光到极紫外曝光.集成度提高了约百亿倍,特征尺寸线宽缩小到原来的约1/10000.随着纳米集成电路迅猛发展,光刻技术也从等效摩尔时代进入后摩尔时代.

关键词：光刻技术、光学分辨率增强技术、下一代光刻、微纳米加工技术

所属期刊栏目：59

分类号：TN305.6;TN305.7;TN405(半导体技术)

在线出版日期：2022-06-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共21页

页码：508-528