步进扫描投影光刻机照明系统技术研究进展

摘要：

光刻技术是制造集成电路的核心技术,光刻机是制造集成电路的核心设备,照明系统是光刻机的核心部件之一.介绍了深紫外步进扫描投影光刻机照明系统的工作原理,重点分析了光瞳整形技术、光场匀化技术和偏振照明技术,归纳和概述了相关的技术原理和实现方法.

关键词：光刻机照明系统、步进扫描投影、光瞳整形、光场匀化、偏振照明

所属期刊栏目：59

分类号：O436(光学)

在线出版日期：2022-06-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共9页

页码：197-205