极紫外(EUV)光刻胶的研发

摘要：

极紫外(EUV)光刻技术是半导体制造业中应用的最先进光刻技术,与之配套的光刻胶近年来也有了长足发展.本文结合EUV光刻技术面临的新问题和新挑战,分别对高分子型、单分子树脂(分子玻璃)型、有机-无机杂化型EUV光刻胶的国内外研发历程进行了比较完整的综述,希望能为我国的极紫外光刻技术和材料的研发提供帮助.

关键词：材料、极紫外光刻、极紫外光刻胶、光刻

所属期刊栏目：59

分类号：O644.1(物理化学（理论化学）、化学物理学)

资助基金：国家自然科学基金;国家自然科学基金;国家自然科学基金;国家自然科学基金;国家科技重大专项;国家科技重大专项

在线出版日期：2022-06-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共28页

页码：48-75