极紫外(EUV)光刻胶的研发
极紫外(EUV)光刻技术是半导体制造业中应用的最先进光刻技术,与之配套的光刻胶近年来也有了长足发展.本文结合EUV光刻技术面临的新问题和新挑战,分别对高分子型、单分子树脂(分子玻璃)型、有机-无机杂化型EUV光刻胶的国内外研发历程进行了比较完整的综述,希望能为我国的极紫外光刻技术和材料的研发提供帮助.
材料、极紫外光刻、极紫外光刻胶、光刻
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O644.1(物理化学(理论化学)、化学物理学)
国家自然科学基金;国家自然科学基金;国家自然科学基金;国家自然科学基金;国家科技重大专项;国家科技重大专项
2022-06-28(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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