光刻机运动台控制方法研究进展

摘要：

光刻机是支撑集成电路芯片制程不断减小的关键设备,而高性能的光刻机需要高加速度和高精度的运动台作为支撑.为了达到光刻机的各项工作指标,高性能的运动台控制方法必不可少.本文针对光刻机运动台的主流控制方法进行了梳理和介绍,首先介绍了运动台的工作原理及基本控制架构,然后从前馈控制、反馈控制、冗余驱动/冗余测量等方面对运动台控制方法进行具体介绍,旨在为光刻机运动台控制方法的进一步发展提供参考.

关键词：光刻机、运动台、前馈控制、反馈控制

所属期刊栏目：59

分类号：TN305(半导体技术)

资助基金：国家重点研发计划;中国博士后科学基金;复旦大学专用集成电路与系统国家重点实验室开放基金

在线出版日期：2022-06-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共13页

页码：35-47