并行STED显微中光学系统对荧光擦除图案的影响

摘要：

并行受激发射损耗(STED)显微术采用周期性排列的光学格子作为荧光抑制图案并行实现多点荧光擦除,可以有效地提升显微成像的时间分辨率.本文建立了并行STED显微成像系统的简化光学系统模型,在此基础上推导出受光学参数影响的并行荧光擦除图案周期公式,来阐明辅助物镜及显微物镜对该周期的影响机理.由该公式,解出了能产生更小周期并行荧光擦除图案的最优光学参数.数值仿真结果显示,本文方法能产生出周期小至276 nm×276 nm的正方形网格状并行荧光擦除图案.

关键词：显微、荧光显微镜、并行受激发射损耗、荧光擦除图案、光学系统参数、数值仿真

所属期刊栏目：57

分类号：TH742(仪器、仪表)

在线出版日期：2020-07-07（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：156-161