磁流变抛光流场瞬变过程响应时间

摘要：

提出一种磁流变抛光瞬变过程多相颗粒流模型,获得了瞬变过程在宏观、介观、微观三个层次的力学关联,从而建立了基于三向在位力学信号的瞬变过程表征方法,在位、同步、动态地测定了磁流变抛光的三向力学信号,解决了毫米尺度空间下磁流变抛光液-固界面的在位测量问题.采用屈服强度为220 kPa、宾汉黏度为0.07 Pa·s的高去除率抛光液对φ50 mm的BK7超精密平面元件进行磁流变抛光实验,测量得到磁流变抛光流场瞬变响应时间为700 ms.

关键词：光学设计、强激光系统、超精密光学加工、磁流变抛光(MRF)、瞬变过程、在位测量、响应时间

所属期刊栏目：57

分类号：TH164

资助基金：高档数控机床与基础制造装备"科技重大专项;教育部重点实验室开放基金;贵州省科技计划;贵州省教育厅青年科技人才成长项目

在线出版日期：2020-05-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：203-209