常温下ZnO/Ag/ZnO复合薄膜的制备及其光电特性
采用射频磁控溅射与电子束蒸发的方式,制备了ZnO/Ag/ZnO三层复合薄膜,研究了Ag薄膜厚度以及电子束蒸发的沉积速率对复合薄膜光电性能的影响.实验结果表明,当Ag薄膜厚度为8nm、电子束蒸发的沉积速率为0.5nm·s-1时,复合薄膜的性能最优,其方块电阻为6.01Ω,波长400~800nm 范围内的光平均透过率为91.39%.优化后的ZnO/Ag/ZnO复合薄膜具有良好的光电特性.
薄膜、ZnO/Ag/ZnO复合薄膜、电子束蒸发、射频磁控溅射、光电特性
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TN304.2+1(半导体技术)
2018-07-30(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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