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10.3788/LOP51.122302

Si基Ge薄膜共振腔增强型光电探测器的设计与模拟

引用
设计了Si衬底上Ge薄膜共振腔增强型光电探测器的器件结构,理论计算了上下反射镜Si/SiO2的对数、吸收区Ge薄膜的厚度、有源区面积等参数对器件的外量子效率、带宽等性能的影响.当器件上下反射镜Si/SiO2的对数分别为2和3,Ge薄膜的厚度为0.46,μm,器件的台面面积小于176 μm2时,探测器在中心波长1.55μ,m处的外量子效率达到0.64,比普通结构提高了30倍,同时器件的带宽达到40 GHz.

光电子学、共振腔增强型、光电探测器、锗

51

TN315(半导体技术)

深圳市科技计划JCYJ20120821162230170

2015-01-19(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

212-217

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