提高反应烧结碳化硅反射镜光学性能的研究

摘要：

反应烧结碳化硅(RB-SiC)是一种性能良好的反射镜镜胚材料,但其固有的一些缺陷导致未经特殊处理无法获得光滑的光学表面.使用X射线衍射(XRD)测试了反应烧结碳化硅试片的晶体结构,结果表明其主要成分为多晶态碳化硅和多晶态硅.扫描电子显微镜和原子力显微镜的测试结果指出镜胚表面残留的孔洞及抛光形成的台阶是造成散射降低光学性能的原因.通过等离子辅助沉积技术在反应烧结碳化硅表面镀制了一层硅改性层,消除了缺陷,再精细抛光硅改性层,获得了质量良好的光学表面.自行搭建的总积分散射仪对镀制硅改性层前后的反应烧结碳化硅表面进行了测量,总积分散射分别为9.37％和1.84％,改性后数值降低到改性前的1/5.反应烧结碳化硅反射镜光学性能得到了明显提高,接近抛光良好的K9玻璃.

关键词：薄膜、反应烧结碳化硅、表面改性、总积分散射、等离子辅助沉积

所属期刊栏目：51

分类号：O484;TN304(固体物理学)

资助基金：国家自然科学基金60478035

在线出版日期：2014-10-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：231-236