氧分压对溅射氧化钒薄膜结构和透光性能的影响

摘要：

采用射频磁控溅射法,在K9抛光玻璃基底上沉积氧化钒(VOx)薄膜,研究在其他参数保持不变时氧分压参量对薄膜的结构、表面质量及透光性能的影响.利用表面轮廓仪、X射线衍射仪、原子力显微镜及分光光度计分别对样品的沉积速率、物相结构、表面形貌和紫外-近红外光透射率进行分析.结果表明,制备的VOx薄膜的晶相随氧分压不同发生改变,调整氧分压在可见-近红外光区域可获得弱吸收的光学膜,但氧分压过高只能获得低的薄膜沉积速率,氧分压对薄膜表面粗糙度及晶体生长模式也有不同程度的影响.本文对实验结果进行了分析和讨论.

关键词：薄膜、氧化钒、射频磁控溅射、氧分压

所属期刊栏目：51

分类号：O484(固体物理学)

在线出版日期：2014-07-29（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：194-199