极紫外光学表面污染控制技术的研究进展

摘要：

极紫外(EUV)光刻机中光学元件的污染和采用的污染控制策略是影响光刻机性能的重要因素,其中污染主要包括光学表面碳沉积和光学表面氧化,污染控制技术包括智能气体混合技术、保护层技术和污染物清洁技术.着重论述了上述两种主要污染形式和三种污染控制技术的研究进展,对EUV光刻机中污染研究的前景进行了展望,并指出其发展面临的挑战及有待解决的关键技术.

关键词：光学制造、极紫外光刻、光学表面污染、污染控制、氧化、碳沉积

所属期刊栏目：50

分类号：O432.1;O644.1(光学)

资助基金：国家自然科学基金51235005资助课题

在线出版日期：2013-05-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：37-43