用于太阳能电池的多晶硅激光表面织构化研究
介绍了利用激光制备多晶硅表面织构的研究结果.采用激光在硅片表面刻蚀,然后利用化学方法去除残渣和损伤,制得均匀的表面陷光结构.通过扫描电子显微镜,Hitachi U-4100分光光度计和Semilab WT2000少子寿命仪分析了表面织构化后硅片的表面形貌、反射率和少子寿命.通过调节激光和化学腐蚀参数得到很好的陷光效果,表面反射率最低可以降到约10%.但是激光刻蚀对硅片性能仍有一定损伤,有待改进.激光表面织构为多晶硅的减反射处理提供有效的途径.
激光材料处理、表面织构、表面刻蚀减反射、多晶硅太阳能电池
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TN249(光电子技术、激光技术)
国家863计划2006AA05Z409
2011-05-16(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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