脉冲激光沉积法制备二氧化钒薄膜的研究进展
主要阐述了脉冲激光沉积(PLD)技术在制备金属氧化物方面的物理过程和技术特点,详细介绍了脉冲激光沉积制备二氧化钒(VO2)薄膜的工艺参数和同内外研究进展,并与几种常规制备方法进行了对比,给出了脉冲激光沉积掺杂对VO2溥膜特性的影响,以及脉冲激光沉积制备VO2纳米材料,讨论了脉冲激光沉积制备VO2薄膜存在的问题和发展方向.
薄膜、VO2薄膜、脉冲激光沉积、制备、掺杂
TB43;TN215(工业通用技术与设备)
国家863计划擘题课题2006AA032348;教育部科学技术研究重点项目207033;上海市科学技术委员会科技攻关计划项目06DZ11415;上海市教委科学技术研究重点项目06ZZ32资助课题
2009-07-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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