浸没式光刻技术的研究进展
浸没式光刻技术是将某种液体充满投影物镜最后一个透镜的下表面与硅片之间来增加系统的数值孔径,可以将193 nm光刻延伸到45 nm节点以下.阐述了浸没式光刻技术的原理,讨论了液体浸没带来的问题,最后介绍了浸没式光刻机的研发进展.
光刻、浸没式光刻、投影物镜、浸没液体、偏振光照明、气泡
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TN3(半导体技术)
2006-09-18(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共8页
13-20
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光刻、浸没式光刻、投影物镜、浸没液体、偏振光照明、气泡
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TN3(半导体技术)
2006-09-18(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共8页
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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