计算机光学元件的制作及新应用
论述计算机光学元件制作的方法,着重介绍了灰度掩模技术,反应离子束刻蚀法和激光直写技术,并且说明了其在空间聚焦器上和激光雷达上的新应用.
计算机光学元件、灰度掩模、刻蚀法、激光直写
42
TP3(计算技术、计算机技术)
2005-11-10(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共6页
27-31,8
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计算机光学元件、灰度掩模、刻蚀法、激光直写
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TP3(计算技术、计算机技术)
2005-11-10(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共6页
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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