极紫外光刻
@@ 光刻一般被认为是每代半导体器件的关键技术.几十年来光学投影光刻是大批量生产集成电路光刻技术的最好选择,目前普遍认为光学系统的掩模技术的改进将会使其扩展至100 nm最小刻线区.
投影光刻、大批量生产、半导体器件、掩模技术、集成电路、光学系统、光刻技术、关键技术、选择、扩展、刻线
TN2(光电子技术、激光技术)
2007-05-28(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共6页
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TN2(光电子技术、激光技术)
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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