1,2,4-三氮唑和苯并三氮唑对316L不锈钢化学机械抛光的影响

摘要：

为探究1,2,4-三氮唑(TAZ)和苯并三氮唑(BTA)对316L不锈钢化学机械抛光(CMP)的影响及作用机理,在酸性条件下使用TAZ或BTA为缓蚀剂化学机械抛光316L不锈钢,用白光干涉仪观测316L不锈钢抛光后的表面质量,用红外光谱仪表征缓蚀剂的结构,用接触角测量仪检测抛光表面钝化膜的疏水性能,并用电化学工作站分析缓蚀剂的抑制效果和类型.结果表明:不锈钢材料去除率随TAZ或BTA含量的增大而减小.当TAZ浓度为3 mmol/L时,不锈钢表面粗糙度最低,为2.64 nm;BTA浓度为2 mmol/L时,不锈钢表面粗糙度最低,为2.53 nm.两者都含有含N官能团,都会增大316L不锈钢表面所生成钝化膜的疏水性并减小腐蚀电流密度,但使用TAZ时生产的保护膜更弱.且2种缓蚀剂均为阳极抑制型缓蚀剂.

关键词：化学机械抛光、316L不锈钢、表面质量、缓蚀剂、保护膜

所属期刊栏目：41

分类号：TG58;TG732;TN27(金属切削加工及机床)

资助基金：国家自然科学基金51675232

在线出版日期：2021-03-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：83-88