A向蓝宝石化学机械抛光研究

摘要：

以纳米氧化铝为磨料对A向蓝宝石进行化学机械抛光,实验中考察了磨料浓度、磨料粒径、抛光时间、抛光压力以及NH4F浓度等因素对A向蓝宝石的材料去除速率和表面粗糙度的影响.利用原子力显微镜(AFM)检测抛光后A向蓝宝石的表面粗糙度,系统分析抛光过程中各影响因素,优化实验条件,结果表明:当抛光液中磨料质量分数为1％、磨料粒度尺寸为50 nm、抛光时间为40 min、抛光压力为16.39 kPa、NH4F质量分数为0.6％、pH=4.0时,抛光后材料去除速率(MRR)为18.2 nm/min,表面粗糙度值Ra22.3 nm,抛光效果最好.

关键词：A向蓝宝石、化学机械抛光、氟化铵、材料去除速率、表面粗糙度

所属期刊栏目：36

分类号：TG58(金属切削加工及机床)

资助基金：国家自然科学基金项目50975002;教育部高校留学回国人员科研项目;安徽省教育厅自然科学基金KJ2011A057.

在线出版日期：2016-09-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：43-49