10.13394/j.cnki.jgszz.2014.3.0012
圆光栅玻璃的游离磨料研磨抛光加工工艺
用游离磨料对圆光栅玻璃表面进行了研磨抛光实验,讨论了磨粒尺寸、磨料质量分数、加工时间、研磨盘转速、加载压力、抛光垫材料对试件表面粗糙度和材料去除率的影响。研究表明,硬质抛光垫能更好地保持试件的平面度。获得的优化工艺参数组合为:研磨盘转速75 r/min;磨料质量分数10%;研磨液流量10 mL/min;5μm 的 Al2 O 3加载压力0.019 MPa,粗研20 min;1μm 的 Al2 O 3加载压力0.015 MPa,精研20 min;30 nm 的 CeO 2加载压力0.012 MPa,精抛10 min。在该工艺组合下,获得了表面粗糙度值Ra 为3.3 nm、平面度为5μm 的圆光栅玻璃。
圆光栅玻璃、研磨、抛光、表面粗糙度、平面度
TG73(刀具、磨料、磨具、夹具、模具和手工具)
2014-08-21(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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