CVD单晶金刚石的研究进展

摘要：

化学气相沉积(CVD)单晶金刚石是近年来金刚石领域研究焦点之一,在众多合成方法中,微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)是诸多学者公认的稳定生长均匀高质量单晶金刚石最有前途的技术.近年来,MPCVD合成单晶金刚石在质量、速率、尺寸以及应用上取得了重大的进展,但是目前仍然有一个问题需要解决,即如何在保证质量的前提下大幅度提高单晶金刚石的生长速率.本文对CVD单晶金刚石过程中衬底的选择、表面加工与处理、基座的结构和沉积参数的选择进行了详细评述,并简要介绍了CVD单晶金刚石国内外研发成果.

关键词：化学气相沉积、单晶金刚石、生长参数、研究成果

所属期刊栏目：34

分类号：TQ164

资助基金：国家自然科学基金项目10875093

在线出版日期：2014-03-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：57-63